粉末冶金高纯铬和铬合金溅射靶材烧结工艺研究 |
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引用本文: | 张青来,贺继弘.粉末冶金高纯铬和铬合金溅射靶材烧结工艺研究[J].精密成形工程,2003,21(6). |
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作者姓名: | 张青来 贺继弘 |
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作者单位: | 1. 上海交通大学,材料科学与工程学院,上海,200030 2. 上海钢铁研究所,上海,200940 |
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摘 要: | 介绍了不同加工方式对铬靶烧结密度的影响.在机压过程中,采用双向压制,不添任何成型剂和脱氧剂.机压+真空烧结铬环靶材密度为78%~80%;冷等静压+真空烧结铬板靶材密度大于82%;而经轧制后,铬板靶材密度提高到90%~95%;铬合金靶材采用热压方式,其密度大于98%.通过优化烧结时间和烧结温度等工艺参数,铬环靶材的烧结成本大大降低.
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关 键 词: | 铬 铬合金 粉末冶金 溅射 靶材 |
Technological Study of Powder Metallurgical High-pure Chrome for Sputtering Target Material |
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Abstract: | |
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Keywords: | |
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