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| 连续微浮雕面形控制的新方法 | |
| 作者姓名： | 董小春 杜春雷 王长涛 |
| 作者单位： | 中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室,成都,610209;中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室,成都,610209;中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室,成都,610209 |
| 摘 要： | 建立了抗蚀剂表面曝光量分布与抗蚀剂内部PAC浓度分布之间的关系，通过分析抗蚀剂内部PAC浓度分布特点，发现了抗蚀剂显影过程中的壁垒效应。在此基础上，提出一种新颖的微浮雕面形控制方法——等PAC浓度曲线面形控制技术。该方法克服了抗蚀剂显影模型精度以及显影不稳定性对浮雕面形的影响，使光刻胶上微结构浮雕深度超过100μm，面形均方根误差小于1μm。 |
| 关 键 词： | 微光学元件 面形控制 壁垒效应 光刻模型 |
| 收稿时间： | 2005-10-17 |
| 修稿时间： | 2005-10-17 |
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