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| 光刻技术在微电子设备的应用及发展 | |
| 引用本文： | 刘加峰,胡存刚,宗仁鹤. 光刻技术在微电子设备的应用及发展[J]. 光电子技术与信息, 2004, 17(1): 24-27 |
| 作者姓名： | 刘加峰 胡存刚 宗仁鹤 |
| 作者单位： | 合肥工业大学电气与自动化工程学院,安徽,合肥,230031 |
| 摘 要： | 介绍了光刻技术在微电子领域的应用，具体分析多种短波长光刻技术的最新进展，并对在0．1μm之后用于替代光学光刻的下一代光刻技术的发展趋势作了展望． |
| 关 键 词： | 微电子 光刻 下一代光刻技术 |
| 文章编号： | 1006-1231(2004)01-0024-04 |
| 修稿时间： | 2003-09-05 |
The Application and Development of Lithography Technology for Microelectronics Equipment in New Century |
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