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Pb过量和种子层对PLZT薄膜的影响
引用本文:刘立,何剑,张鹏,王二伟,胡磊,丑修建.Pb过量和种子层对PLZT薄膜的影响[J].压电与声光,2017,39(1):121-125.
作者姓名:刘立  何剑  张鹏  王二伟  胡磊  丑修建
作者单位:(1.中北大学 仪器科学与动态测试教育部重点实验室,山西 太原 030051;2.中北大学 电子测试技术重点实验室,山西 太原 030051)
基金项目:国家自然科学基金资助项目(51422510,51175483,61401460)
摘    要:采用溶胶-凝胶(Sol-Gel)法在Pt/Ti/SiO_2/Si衬底上制备不同Pb过量(未过量、10%、15%)和引入不同厚度(0、100nm、500nm)锆钛酸铅(PZT)缓冲层的锆钛酸铅镧(PLZT)反铁电薄膜,通过原子力显微镜、X线衍射表征分析薄膜的微观结构。结果表明,过量10%的Pb组分有助于形成钙钛矿结构,获得较大的晶粒尺寸和理想的粗糙度;100nm的PZT缓冲层的引入有利于PLZT薄膜晶化,形成较致密、结晶状况良好的薄膜。

关 键 词:溶胶-凝胶(Sol-Gel)法  钙钛矿结构  锆钛酸铅镧(PLZT)薄膜  缓冲层。

Effect of Excessive Pb and Seed Layer Thickness on the Microstructure of PLZT Thin Films
LIU Li,HE Jian,ZHANG Peng,WANG Erwei,HU Lei,CHOU Xiujian.Effect of Excessive Pb and Seed Layer Thickness on the Microstructure of PLZT Thin Films[J].Piezoelectrics & Acoustooptics,2017,39(1):121-125.
Authors:LIU Li  HE Jian  ZHANG Peng  WANG Erwei  HU Lei  CHOU Xiujian
Abstract:
Keywords:Sol Gel method  perovskite structure  PLZT films  buffer layer
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