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| 双异质外延Si/Al_2O_3/Si薄膜制作的CMOS器件 | |
| 引用本文： | 昝育德,王俊,李瑞云,韩秀峰,王建华,于芳,刘忠立,王玉田,王占国,林兰英.双异质外延Si/Al_2O_3/Si薄膜制作的CMOS器件[J].半导体学报,2004,25(7):824-830. |
| 作者姓名： | 昝育德 王俊 李瑞云 韩秀峰 王建华 于芳 刘忠立 王玉田 王占国 林兰英 |
| 摘 要： | 报道了利用高真空 MOCVD外延生长 γ氧化铝的技术和利用 SOS CMOS的成熟工艺制作双异质外延 Si/ γ-Al2 O3/ Si单晶薄膜以及用其研制 Si/ γ- Al2 O3/ Si CMOS场效应晶体管、Si/ γ- Al2 O3/ Si CMOS集成电路的初步结果 |
| 关 键 词： | 外延 CMOS SOS |
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