|
|||||
|
|
| 溅射法制备VO2薄膜的研究现状 | |
| 引用本文： | 宋晶晶,张津,杨栋华. 溅射法制备VO2薄膜的研究现状[J]. 材料导报, 2007, 21(Z2): 112-114 |
| 作者姓名： | 宋晶晶 张津 杨栋华 |
| 作者单位： | 重庆工学院材料学院,重庆,400050 |
| 摘 要： | 主要介绍了VO2薄膜的微、宏观相变机理,阐述了溅射法制备VO2薄膜的优势及影响薄膜性能的一些因素,指出了今后VO2薄膜的研究重点. |
| 关 键 词： | 二氧化钒 薄膜 溅射 影响因素 |
Research on VO2 Film Prepared by Sputtering |
|
| SONG Jingjing,ZHANG Jin,YANG Donghua. Research on VO2 Film Prepared by Sputtering[J]. Materials Review, 2007, 21(Z2): 112-114 | |
| Authors: | SONG Jingjing ZHANG Jin YANG Donghua |
| Abstract: | |
| Keywords: | |
| 本文献已被 万方数据 等数据库收录！ | |