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| DLC膜作为半导体器件表面钝化膜的研究 | |
| 作者姓名： | 毛友德 刘声雷 |
| 作者单位： | 合肥工业大学应用物理系 230009(毛友德，刘声雷)，合肥工业大学应用物理系 230009(杨国伟) |
| 摘 要： | 本文以甲苯为工作气体,采用rfPCVD方法在各种衬底上制备出DLC膜,研究了Al-DLC-Si结构的高频C-V特性,以及作为半导体器件的表面钝化膜的应用。 |
| 关 键 词： | 半导体器件 表面纯化膜 DLC膜 |
| 本文献已被 CNKI 维普 等数据库收录！ | |
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