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| 通用工艺与设备 热处理与表面处理工艺 | |
| 摘 要： | 0626019阳极氧化中烧损行为及防止〔刊,中〕/王平//西华大学学报(自然科学版).—2006,25(4).—41-43(G)0626020利用热退火法从非晶硅薄膜中生长纳米硅粒〔刊,中〕/薛清//量子电子学报.—2006,23(4).—565-568(L)报道了一种从氢化非晶硅薄膜中生长纳米硅粒的方法。氢化非晶硅薄膜经过不同条件的热退火处理后,用拉曼散射和X射线衍射技术对样品进行了分析。实验结果表明:在快速升温条件下所形成的nc-Si在薄膜中的分布是随机均匀的,直径在1.6~15nm范围内,硅粒大小随退火过程中升温快慢而变化。参70626021脉冲电沉积Ni-W合金镀层的摩擦磨损性… |
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