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Nb-Si-N纳米复合薄膜表面吸附与迁移的第一性原理研究
引用本文:任元,张超,刘学杰,谭心,魏怀. Nb-Si-N纳米复合薄膜表面吸附与迁移的第一性原理研究[J]. 功能材料, 2015, 0(5): 5089-5094
作者姓名:任元  张超  刘学杰  谭心  魏怀
作者单位:内蒙古科技大学 机械工程学院,内蒙古 包头,014010
基金项目:国家自然科学基金资助项目,内蒙古自治区自然科学基金资助项目,内蒙古科技大学创新基金资助项目
摘    要:针对Nb-Si-N纳米复合薄膜在沉积过程中各原子的成核过程和生长取向,采用基于密度泛函理论(DFT)第一性原理超软赝势平面波计算方法分别计算了Nb、Si、N各单原子在NbN(001)表面6个对称位的吸附作用和迁移过程。吸附作用的计算获得各原子的势能面,其中Nb在NbN(001)表面最低能量位置为HL位,N、Si最低能量位置处于HL位与TopN位之间。势能面计算结果确定各单原子在NbN(001)表面迁移的路径分别为,Nb原子和Si原子均为从TopN位置迁移到HL位置;N原子分别从TopNb位置和TopN-HL位置迁移到HL位置。Nb、Si、N各单原子在NbN(001)表面迁移激活能分别为0.32,0.69和1.32eV。

关 键 词:Nb-Si-N  表面吸附  表面迁移  密度泛函计算

Surface adsorption and diffusion of Nb-Si-N nano-composite films:a first principles study
REN Yuan,ZHANG Chao,LIU Xue-jie,TAN Xin,WEI Huai. Surface adsorption and diffusion of Nb-Si-N nano-composite films:a first principles study[J]. Journal of Functional Materials, 2015, 0(5): 5089-5094
Authors:REN Yuan  ZHANG Chao  LIU Xue-jie  TAN Xin  WEI Huai
Affiliation:REN Yuan;ZHANG Chao;LIU Xue-jie;TAN Xin;WEI Huai;School of Mechanical Engineering,Inner Mongolia University of Science & Technology;
Abstract:
Keywords:niobium nitride  surface adsorption  surface diffusion  density functional calculation
本文献已被 CNKI 万方数据 等数据库收录!
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