首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
     

磁控溅射法沉积纳米Cu薄膜的性能研究
引用本文:郭俊婷,徐阳.磁控溅射法沉积纳米Cu薄膜的性能研究[J].功能材料,2015(5):5123-5127.
作者姓名:郭俊婷  徐阳
作者单位:江南大学 生态纺织教育部重点实验室,江苏 无锡,214122
基金项目:国家高技术研究发展计划(863计划)资助项目,2012江苏科技支持计划(工业)资助项目
摘    要:采用卷绕型磁控溅射设备在涤纶(PET)针刺毡表面沉积了纳米结构Cu薄膜,利用X射线衍射仪(XRD)对薄膜的组分和结晶状态进行了分析,用原子力显微镜(AFM)分析了不同溅射工艺参数对纳米Cu薄膜微观结构和颗粒直径的影响,并较为系统地分析了溅射功率、工作气压和沉积时间对镀铜PET针刺毡导电性能的影响。结果表明,增大溅射功率,镀铜PET针刺毡导电性和Cu膜均匀性变好,但应控制在6kW以下;随工作气压的增大,薄膜方块电阻先减小后增大,薄膜厚度更加均匀;随着沉积时间的延长,Cu粒子的直径增大,Cu膜的导电性和均匀性明显变好。

关 键 词:卷绕型磁控溅射  纳米结构Cu薄膜  X射线衍射仪  原子力显微镜(AFM)  导电性能

Study on the performance of nano-copper film deposited by magnetron sputtering
GUO Jun-ting,XU Yang.Study on the performance of nano-copper film deposited by magnetron sputtering[J].Journal of Functional Materials,2015(5):5123-5127.
Authors:GUO Jun-ting  XU Yang
Affiliation:GUO Jun-ting;XU Yang;Key Laboratory of Science and Technology of Eco-Textile,Ministry of Education,Southern Yangtze University;
Abstract:
Keywords:winding type magnetron sputtering  nano-copper film  X-ray diffractometer (XRD)  atomic force mi-croscope (AFM)  conductivity
本文献已被 CNKI 万方数据 等数据库收录!
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号