有机硼化物离子渗硼

发展了以硼酸三甲脂Ｂ（ＯＣＨ３）３为渗剂的离子渗硼工艺，并探讨了基体温度，处理时间以及气相中渗剂浓度对硼化铁层的影响。渗硼时间为１ｈ以内可得到５μｍ厚的硼化铁层。一些处理参数会导致在硼化物层上形成硼－碳层，它将起着扩散垒的作用，阻止了硼化物进一步的生长。