| 射频磁控溅射的不同厚度MgF2薄膜的微结构和应力特性 |
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| 引用本文： | 孙兆奇,吕建国,何玉平,宋学萍. 射频磁控溅射的不同厚度MgF2薄膜的微结构和应力特性[J]. 硅酸盐学报, 2004, 32(6): 700-703 |
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| 作者姓名： | 孙兆奇 吕建国 何玉平 宋学萍 |
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| 作者单位： | 安徽大学物理系,合肥,230039 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金(59972001)、安徽省自然科学基金(01044901)、安徽省教育厅科研基金(99JL0024)及安徽大学人才队伍建设基金资助项目. |
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| 摘 要： | 用射频磁控溅射法在室温Si基片上制备了60．7～1545．0nm范围内不同厚度的MgF2薄膜，并用X射线衍射及激光干涉相移技术对不同厚度MgF2薄膜微结构和应力分布进行了测试分析。结构分析表明：制备的MgF2薄膜呈多晶状态，仍为四方结构；随膜厚由420．0nm增加到1545．0nm，膜的平均晶粒尺寸由3．2tim逐渐增大到14．5nnl。应力研究表明：所制备的MgF2薄膜在Ф≠30mm选区内全场平均应力均表现为张应力；随膜厚增加，MgR薄膜中的平均应力值起始时呈近似线性缓慢减小，当膜厚大于1200nm时，其选区平均应力及应力差基本趋于稳定。
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| 关 键 词： | 氟化镁薄膜 射频磁控溅射 微结构 应力特性 |
| 文章编号： | 0454-5648(2004)06-0700-04 |
| 修稿时间： | 2003-08-11 |
MICROSTRUCTURE AND STRESS PROPERTIES OF RADIO FREQUENCY MAGNETRON SPUTTERING MgF2 FILMS WITH DIFFERENT THICKNESSES |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | magnesium fluoride films radio-frequency magnetron sputtering microstructure stress properties |
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