| 基于扫描电镜的电子束曝光机对准系统的研制 |
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| 引用本文： | 张今朝,方光荣.基于扫描电镜的电子束曝光机对准系统的研制[J].微细加工技术,2006(3):10-13. |
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| 作者姓名： | 张今朝 方光荣 |
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| 作者单位： | 中国科学院电工研究所,北京,100080 |
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| 摘 要： | 介绍了基于扫描电镜的电子束曝光机对准系统的原理,详细分析了此系统的硬件设计、软件设计以及扫描场的校正过程。利用硬件获取扫描图像,并进行实时标记校正,利用软件进行标记位置识别和校正参数计算,满足了曝光机对准系统在性能和精度上的要求。在100μm扫描场下进行拼接曝光实验,达到了77.3 nm(2σ)的拼接精度。
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| 关 键 词： | 电子束曝光 扫描电镜 对准 |
| 文章编号： | 1003-8213(2006)03-0010-04 |
| 修稿时间： | 2005年9月10日 |
Development of Alignment System of Electron Beam Lithography Based on SEM |
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| ZHANG Jin-zhao,FANG Guang-rong.Development of Alignment System of Electron Beam Lithography Based on SEM[J].Microfabrication Technology,2006(3):10-13. |
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| Authors: | ZHANG Jin-zhao FANG Guang-rong |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | electron beam lithography SEM alignment |
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