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0.18 μm射频SOI LDMOS功率器件的研究
引用本文:廖小平. 0.18 μm射频SOI LDMOS功率器件的研究[J]. 微电子学, 2006, 36(1): 30-32
作者姓名:廖小平
作者单位:东南大学MEMS教育部重点实验室,江苏,南京,210096
基金项目:教育部留学回国人员科研启动基金
摘    要:在提出0.18μm射频SOI LDMOS功率器件研究方法的基础上,对工艺进行了设计,并制备了栅宽为1 200μm,栅长为0.7μm,漏的注入区与栅的距离为1.5μm的0.18μm射频SOILDMOS功率器件。对器件进行了测试和模拟,在工作频率为3 GHz,直流偏置电压VDS为3 V,VGS为1.5 V,输入功率Pin为5 dBm时,Pout、增益和PAE分别为15 dBm1、0 dB和35%。

关 键 词:射频  SOI  LDMOS  功率器件
文章编号:1004-3365(2006)01-0030-03
收稿时间:2005-04-19
修稿时间:2005-04-192005-07-04

A Study on 0.18 μm RF SOI LDMOS Power Device
LIAO Xiao-ping. A Study on 0.18 μm RF SOI LDMOS Power Device[J]. Microelectronics, 2006, 36(1): 30-32
Authors:LIAO Xiao-ping
Abstract:
Keywords:Radio frequency  SOI  LDMOS  Power device  
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