|
|||||
|
|
| 硅的离子束抛光技术研究 | |
| 引用本文： | 洪义麟,付绍军,陶晓明,黄文浩,褚家如,L．Monica,A．M．Baro.硅的离子束抛光技术研究[J].真空科学与技术学报,1995(6). |
| 作者姓名： | 洪义麟 付绍军 陶晓明 黄文浩 褚家如 L．Monica A．M．Baro |
| 作者单位： | 中国科技大学国家同步辐射实验室!合肥230026(洪义麟，付绍军，陶晓明)，中国科技大学精密机械系!合肥230026(黄文浩，褚家如)，西班牙马德里自治大学凝聚态材料系(L．Monica)，西班牙马德里自治大学凝聚态材(A．M．Baro) |
| 摘 要： | 介绍了用离子束抛光法获得硅的超光滑表面的方法，并给出了不同抛光条件下表面粗糙度的原子力显微镜（AFM）测量结果，其中最好的表面粗糙度达0.12nm（有效值）。 |
| 关 键 词： | 离子束抛光 硅 超光滑表面 |
| 本文献已被 CNKI 等数据库收录！ | |