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用交流方法消除霍尔效应中的副效应问题的探讨
引用本文:刘昶丁,柳纪虎.用交流方法消除霍尔效应中的副效应问题的探讨[J].半导体技术,1987(1).
作者姓名:刘昶丁  柳纪虎
作者单位:兰州大学 (刘昶丁),兰州大学(柳纪虎)
摘    要:在研究半导体材料中霍尔效应有着广泛的应用.用它来研究半导体材料导电过程,对提供材料的导电类型,载流子浓度、杂质电离能(包括深、浅能级杂质)、禁带宽度、迁移率及杂质补偿度等方面有着重要的作用.本文着重研究霍尔效应中的副效应及其消除方法的探讨,以减少上述测试中所引进不应有的误差等.

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