| 原子层沉积技术及其在光学薄膜中的应用 |
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| 引用本文： | 何俊鹏,章岳光,沈伟东,刘旭,顾培夫.原子层沉积技术及其在光学薄膜中的应用[J].真空科学与技术学报,2009,29(2). |
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| 作者姓名： | 何俊鹏 章岳光 沈伟东 刘旭 顾培夫 |
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| 作者单位： | 浙江大学现代光学仪器国家重点实验室,杭州,310027 |
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| 摘 要： | 回顾了原子层沉积(ALD)技术的发展背景,通过分析ALD的基本工艺,并与传统薄膜制备工艺进行了对比研究.介绍了它在膜层的均匀性、保形性以及膜厚控制能力等方面的优势.着重列举ALD在减反膜、紫外截止膜、折射率可调的薄膜、抗激光损伤薄膜及复杂结构光子晶体等方面的应用.同时指出了目前ALD工艺在光学薄膜应用中存在的主要问题,并对ALD未来的发展进行了展望.
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| 关 键 词： | 原子层沉积 光学薄膜 前驱体 光子晶体 |
Atomic Layer Deposition and Its Applications in Optical Thin Films |
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| He Junpeng,ZhangYueguang,Shen Weidong,Liu Xu,Cu Peifu.Atomic Layer Deposition and Its Applications in Optical Thin Films[J].JOurnal of Vacuum Science and Technology,2009,29(2). |
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| Authors: | He Junpeng ZhangYueguang Shen Weidong Liu Xu Cu Peifu |
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