| 纳米多孔SiO2薄膜疏水性的研究进展 |
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| 引用本文： | 高庆福,冯坚,成慧梅,周仲承,王娟,张长瑞. 纳米多孔SiO2薄膜疏水性的研究进展[J]. 材料导报, 2005, 19(11): 39-42 |
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| 作者姓名： | 高庆福 冯坚 成慧梅 周仲承 王娟 张长瑞 |
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| 作者单位： | 1. 国防科技大学航天与材料工程学院CFC国防科技重点实验室,长沙,410073
2. 国防科技大学机电工程与自动化学院CFC国防科技重点实验室,长沙,410073 |
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| 摘 要： | 超低介电常数纳米多孔SiO2薄膜在未来超大规模集成电路(ULSI)中有着广阔的应用前景,但其疏水性能的好坏是决定其能否在ULSI中应用的重要因素之一.介绍了国内外有关纳米多孔SiO2薄膜疏水性的原理、工艺以及表征方法.
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| 关 键 词： | 纳米多孔SiO2薄膜 疏水处理 接触角 低介电常数 |
Progress of Hydrophobic Nanoporous Silica Aerogel Films |
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| GAO Qingfu,FENG Jian,CHENG Huimei,ZHOU Zhongcheng,WANG Juan,ZHANG Changrui. Progress of Hydrophobic Nanoporous Silica Aerogel Films[J]. Materials Review, 2005, 19(11): 39-42 |
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| Authors: | GAO Qingfu FENG Jian CHENG Huimei ZHOU Zhongcheng WANG Juan ZHANG Changrui |
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| Abstract: | Nanoporous silica films have received significant attention in the ultra large scale integrate(ULSI) devices as an intermetal dielectric(IMD),because of their uniqe properties,such as ultralow dielectric constant(k).But some drawbacks such as high moisture adsorption should be improved.This paper introduces the principle,technics and measures of the hydrophobic silica aerogel films. |
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| Keywords: | nanoporous silica films hydrophobic contact angle low dielectric constant |
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