电绝缘氧化铝膜形成重要参数的研究 |
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引用本文: | 吴永敏,梅建庭.电绝缘氧化铝膜形成重要参数的研究[J].功能材料,1996,27(3):268-270. |
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作者姓名: | 吴永敏 梅建庭 |
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作者单位: | 大连铁道学院应用化学系(吴永敏),大连舰艇学院防化系(梅建庭) |
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摘 要: | 在硫酸介质中,对铝箔表面进行阳极氧化。最佳条件为:H2SO4(15%),H2C2O4(15g/l),NiSO4(8g/l),NP-10(0.1g/l),电流密度(2A/dm^2),氧化时间(10min),温度(25±1℃)。获得了耐蚀、韧性好和击穿电压高的电绝缘氧化铝膜,这种铝箔用于电磁线圈的绕制,得到了满意的结果。
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关 键 词: | 氧化铝膜 电绝缘 工艺 电磁线圈 |
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