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| 钛合金表面TiAlN膜层的制备 | |
| 引用本文： | 张春华,芦伟,杨舒宇,张松,张希川,刘常升.钛合金表面TiAlN膜层的制备[J].沈阳工业大学学报,2008,30(5):525-529. |
| 作者姓名： | 张春华 芦伟 杨舒宇 张松 张希川 刘常升 |
| 作者单位： | 1. 沈阳工业大学,材料科学与工程学院,沈阳,110178;东北大学,材料与冶金学院,沈阳,110004 2. 沈阳工业大学,材料科学与工程学院,沈阳,110178 3. 东北大学,材料与冶金学院,沈阳,110004 |
| 基金项目： | 中国博士后科学基金资助项目(20060400957); 辽宁省教育厅研究发展计划资助项目(05L301,20060636) |
| 摘 要： | 为了研究不同偏压对TiAlN薄膜性能的影响以及薄膜体系膜基硬度比随载荷的变化关系，采用多弧离子镀的方法在Ti6Al4V合金表面制备TiAlN薄膜，利用扫描电子显微镜、x 射线衍射仪、全自动显微硬度计等设备对膜层的微观组织结构和力学性能进行了测试.结果表明，TiAlN膜层由Ti2AlN(hcp)相组成.在恒定载荷条件下，体系的膜基硬度比随载荷的增加而减小.当载荷小于300g时，偏压对膜基硬度比与载荷关系曲线呈不规则影响.载荷超过300g以后，几乎没有影响. |
| 关 键 词： | Ti6Al4V合金 TiAlN合金 薄膜 多弧离子镀 膜基硬度比 |
Preparation of TiAlN film on titanium alloy surface |
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| ZHAG Chun-hua,LU Wei,YANG Shu-yu,ZHANG Song,ZHANG Xi-chuan,LIU Chang-sheng.Preparation of TiAlN film on titanium alloy surface[J].Journal of Shenyang University of Technology,2008,30(5):525-529. | |
| Authors: | ZHAG Chun-hua LU Wei YANG Shu-yu ZHANG Song ZHANG Xi-chuan LIU Chang-sheng |
| Abstract: | The influence of pulse bias voltage on the performance of TiAlN film and the relation between the film-substrate hardness ratio and load were investigated.TiAlN film was prepared on Ti6Al4V alloy tube by multi-arc ion plating technology.Scanning electron microscopy(SEM) and X-ray diffraction(XRD) were used to investigate the composition,microstructure and phase constituent of the film.The hardness was measured with auto micro-hardness tester.The results show that the film is composed of Ti2AlN(hcp).The film... |
| Keywords: | Ti6Al4V alloy TiAlN thin films multi-arc plating film-substrate hardness ratio |
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