| 基体负的低偏压对氟化非晶态碳膜结构及性能的影响 |
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| 引用本文： | 姚志强,杨萍,孙鸿,王进,黄楠.基体负的低偏压对氟化非晶态碳膜结构及性能的影响[J].真空科学与技术学报,2004,24(1):43-46. |
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| 作者姓名： | 姚志强 杨萍 孙鸿 王进 黄楠 |
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| 作者单位： | 西南交通大学,材料工程学院生物材料与表面工程研究所,四川成都,610031 |
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| 基金项目： | 国家重点基础研究发展计划(973计划)，国家自然科学基金 |
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| 摘 要： | 为了研究基体负的低偏压Vb对氟化非晶态碳膜的结构、纳米硬度和疏水性能的影响,采用等离子体浸没与离子注入装置,CF4和CH4作为气源,在不同的基体偏压下制备了一系列氟化非晶态碳膜.使用XPS、ATR-FTIR和Raman谱对其成份和结构进行了表征.薄膜硬度通过纳米压痕仪进行测量,采用躺滴法测量薄膜与双蒸水之间的接触角来评价其疏水性能.XPS和FTIR结果表明薄膜中存在C-CF、C-Fx基团.Raman谱结果表明:随着基体偏压的增加,薄膜从类聚合物状结构逐渐转变为类金刚石结构,薄膜的硬度逐渐增加.接触角测量结果表明:在低偏压范围内,单纯地依靠调节偏压并不能显著地提高薄膜的疏水性能.
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| 关 键 词： | 氟化非晶态碳膜 基体偏压 拉曼光谱 纳米压痕 疏水性 |
| 文章编号： | 1672-7126(2004)01-0043-04 |
| 修稿时间： | 2003年5月6日 |
Influence of Substrate Bias on Growth of Amorphous Fluorinated Carbon Films |
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| Yao Zhiqiang,Yang Ping,Sun Hong,Wang Jin and Huang Nan.Influence of Substrate Bias on Growth of Amorphous Fluorinated Carbon Films[J].JOurnal of Vacuum Science and Technology,2004,24(1):43-46. |
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| Authors: | Yao Zhiqiang Yang Ping Sun Hong Wang Jin and Huang Nan |
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| Affiliation: | Yao Zhiqiang,Yang Ping,Sun Hong,Wang Jin and Huang Nan * |
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