|
|||||
|
|
| 激光辅助EACVD低温生长纳米金刚石薄膜 | |
| 引用本文： | 赵庆勋,董丽芳.激光辅助EACVD低温生长纳米金刚石薄膜[J].量子电子学报,1997,14(6):581-582. |
| 作者姓名： | 赵庆勋 董丽芳 |
| 作者单位： | 河北大学物理系!保定，071002，河北大学物理系!保定，071002 |
| 摘 要： | 近年来，利用高温CVD技术淀积大面积、高质量金刚石薄膜的研究已取得了突破性成果。但随着金刚石薄膜在光学、医学、光电子学等领域的应用，低温合成纳米金刚石薄膜已成为目前国内外研究的重点课题。纳米材料本身的优越性及金刚石薄膜所具有的优异物理化学性质，将使纳米金刚石薄膜具有广阔的应用前景。故低温合成纳米金刚石薄膜的研究具有重要的实际意义。本工作采用激光辅助技术，利用非聚焦的准分子激光束激活硅（Si）基片表面粒子，激光能量为70～180mJ，激光脉宽为20us。反应气体为CH4 H2，所用基片为Si（100）单晶片。在基片温度… |
| 关 键 词： | 激光 EACVD 低温生长 金刚石 薄膜 纳米 |
| 本文献已被 CNKI 维普 等数据库收录！ | |