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AlN基板与金属化层界面的分析电镜研究
引用本文:田民波,梁彤翔. AlN基板与金属化层界面的分析电镜研究[J]. 微纳电子技术, 1995, 0(3)
作者姓名:田民波  梁彤翔
作者单位:清华大学材料科学与工程系
摘    要:利用各种分析电镜观察了掺杂助烧剂和未掺杂助烧剂的AlN陶瓷的微观结构特征,鉴别了AlN中的第二相,研究了AlN基板上薄膜(Au-Pt-Ti)和厚膜(Mo-Mn)金属化界面的结构。

关 键 词:氮化铝,烧结,薄膜,厚膜,位错,层错,反相畴界

Analytical Electronic Microscope study of AlN Substrates and Metallization Interfaces
Tian Minbo,Liang Tongxiang. Analytical Electronic Microscope study of AlN Substrates and Metallization Interfaces[J]. Micronanoelectronic Technology, 1995, 0(3)
Authors:Tian Minbo  Liang Tongxiang
Abstract:By means of analytical electronic microsccpes we observed the mi-crostructure of doped and undoped AlN ceramics, inspected the second phase in AlN, studied the interface structure of Au-Pt-Ti thin film and Mo-Mn thick film metallization.
Keywords:AlN   Sintering  Thin film   Thick film   Dislocation   Stacking faults  Antiphase domain boundaries
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