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用于扫描电镜图像放大倍率校准的三个微米级栅网图形标准样板的研究
引用本文:周剑雄,陈振宇.用于扫描电镜图像放大倍率校准的三个微米级栅网图形标准样板的研究[J].电子显微学报,2005,24(3):185-191.
作者姓名:周剑雄  陈振宇
作者单位:中国地质科学院矿产资源研究所,北京,100037
基金项目:科技部科技基础条件平台建设计划;科技部科技基础条件平台建设计划
摘    要:本文是一篇有关用于扫描电镜图像放大倍率校准的三个微米级栅网图形标准样板的研究报告。这三个标准样板(G125、G250、G4)为铜质栅网网格,包含6个设计标称值分别为12.50μm(G125)、25.00μm(G250)、62.50μm、82.50μm、125.00μm、165.00μm(G4)的网格。样板已经过均匀性、稳定性检查并时栅网网格线距进行了检定。这三个标准栅网样板可有几个作用:(1)同时时两个垂直方向上的扫描电镜图像放大倍率进行检查或校准,是一组调整低倍图像放大倍率的图形标准样板;(2)对图像X、Y方向的畸变和边缘的畸变进行校验,是评价扫描电镜图像质量的一个重要工具;(3)用于同一量级物体长度的精确比对测量。

关 键 词:栅网图形  扫描电镜  放大倍率校准  标准样板
文章编号:1000-6281(2005)03-0185-07

Study on three micron-level grids pattern verified reference material used for magnification calibration of SEM
ZHOU Jian-xiong,CHEN Zhen-yu.Study on three micron-level grids pattern verified reference material used for magnification calibration of SEM[J].Journal of Chinese Electron Microscopy Society,2005,24(3):185-191.
Authors:ZHOU Jian-xiong  CHEN Zhen-yu
Abstract:
Keywords:grids pattern  SEM  magnification calibration  reference material
本文献已被 CNKI 维普 万方数据 等数据库收录!
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