用于0.35微米生产的宽视场远紫外片子步进机 |
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引用本文: | 童志义.用于0.35微米生产的宽视场远紫外片子步进机[J].电子工业专用设备,1996,25(2):38-47. |
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作者姓名: | 童志义 |
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摘 要: | 目前,器件生产厂家和光刻设备制造厂家正在准备进行0.35μm电路的生产。很明显,光学片子步进机仍然是主要的生产设备,但对i线和远紫外片子步进机的选择至今还存在着争议。本文介绍了在开发生产远紫外片子步进机中取得的一些进展。作为1990年在SPIE会议上讨论过的采用TTL对准系统及自动准分子激光波长控制的早期远紫外片子步进机的替代产品,一种新型的远紫外步进机最近已开发成功。该机采用一种新型的248nm波长的镜头,其像场直径为ф29.7mm,数值孔径为0.5。该机主体类似于本公司1991年开始生产的宽视场i线步进机,其关键的设计参数和结果本文将给以介绍。其中包括在正性和负性抗蚀剂中0.25μm以下的成像性能和基于TTL对准系统原理的高精度套刻,同时给出了与i线步进机混合曝光的匹配性能。
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关 键 词: | 光刻 光学投影系统 片子步进机 |
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