| 铝箔交流侵蚀过程的计算机监测(2) |
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| 引用本文： | 阎康平 罗春晖. 铝箔交流侵蚀过程的计算机监测(2)[J]. 电子元件与材料, 1998, 17(6): 16-17 |
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| 作者姓名： | 阎康平 罗春晖 |
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| 作者单位： | 四川联合大学 |
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| 摘 要： | 在铝箔交流侵蚀中用计算机、Ａ／Ｄ转换器和编制的软件监测并记录侵蚀反应进程，研究了盐酸、硫酸浓度和电流对铝箔比容的影响，讨论Ｅ－ｔ曲线的响应，对于不同的侵蚀条件，在Ｅ－ｔ曲线上有不同的特征反映。
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| 关 键 词： | 铝电解电容器 计算机监测 交流侵蚀 |
Etching of Al foil monitored with computer(Part 2) |
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| Yan Kangping,Luo Chunhui,Tu Mingjing. Etching of Al foil monitored with computer(Part 2)[J]. Electronic Components & Materials, 1998, 17(6): 16-17 |
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| Authors: | Yan Kangping Luo Chunhui Tu Mingjing |
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| Abstract: | Computer and analog to digital conversion are used to monitor the process of AC etching aluminum foil for low voltage Al capacitors and record potential response curves (E t) Coordination between NaOH concentration of etching E t curves is discussed (5 refs ) |
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| Keywords: | Al capacitors computer AC etching |
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