| 离子注入法制备超薄氚源 |
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| 引用本文： | 陈庆望,李济民,梁东祺. 离子注入法制备超薄氚源[J]. 原子能科学技术, 1996, 30(1): 17-21 |
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| 作者姓名： | 陈庆望 李济民 梁东祺 |
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| 作者单位： | 中国原子能科学研究院 |
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| 摘 要： | 叙述了一种用于中微子静止质量测量的大面积高活度氚源的离子注入制备过程。氚注入在微晶玻璃基板上的碳膜中，由此获得窄条形（０．２ｍｍ宽）、大面积（４０×３０ｍｍ２）、高活度（约２０ＭＢｑ／ｃｍ２）、氚分布均匀（９５％）、氖注入厚度为２μｇ／ｃｍ２、氚的逃逸速度≤４×１０２Ｂｑ／ｈ的氚源。
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| 关 键 词： | 氚 中微子 离子注入 氚源 |
AN ULTRATHIN TRITIUM SOURCE PREPARED BY ION IMPLANTATION |
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| Chen Qingwang, Li Jimin, Liang Dongqi. AN ULTRATHIN TRITIUM SOURCE PREPARED BY ION IMPLANTATION[J]. Atomic Energy Science and Technology, 1996, 30(1): 17-21 |
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| Authors: | Chen Qingwang Li Jimin Liang Dongqi |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | Tritium Neutrino Ion implantation |
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