复合配位剂对硫酸盐三价铬电沉积的影响 |
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引用本文: | 罗小平,黄中林,谢继云,王增祥,陈昌国.复合配位剂对硫酸盐三价铬电沉积的影响[J].电镀与涂饰,2014(3):100-103. |
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作者姓名: | 罗小平 黄中林 谢继云 王增祥 陈昌国 |
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作者单位: | 重庆大学化学化工学院;重庆民丰化工有限责任公司; |
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基金项目: | 重庆民丰化工科研基金(MF2012-3) |
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摘 要: | 采用动电位扫描法和计时电流法研究了丁二酸、1,6-己二醇、尿素和乙二胺作辅助配位剂时,以甘氨酸为主配位剂的硫酸盐镀液中三价铬的电沉积机理。测试了不同配位体系镀液中所得铬镀层的外观和耐蚀性。辅助配位剂的加入可增强三价铬电沉积的阴极极化作用,但不会改变其三维瞬时成核机理。以尿素或乙二胺作辅助配位剂时,铬镀层均匀、光亮,耐蚀性好,因此尿素和乙二胺较适用于装饰性镀铬工艺。
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关 键 词: | 三价铬 电沉积 甘氨酸 复合配位剂 |
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