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复合配位剂对硫酸盐三价铬电沉积的影响
引用本文:罗小平,黄中林,谢继云,王增祥,陈昌国.复合配位剂对硫酸盐三价铬电沉积的影响[J].电镀与涂饰,2014(3):100-103.
作者姓名:罗小平  黄中林  谢继云  王增祥  陈昌国
作者单位:重庆大学化学化工学院;重庆民丰化工有限责任公司;
基金项目:重庆民丰化工科研基金(MF2012-3)
摘    要:采用动电位扫描法和计时电流法研究了丁二酸、1,6-己二醇、尿素和乙二胺作辅助配位剂时,以甘氨酸为主配位剂的硫酸盐镀液中三价铬的电沉积机理。测试了不同配位体系镀液中所得铬镀层的外观和耐蚀性。辅助配位剂的加入可增强三价铬电沉积的阴极极化作用,但不会改变其三维瞬时成核机理。以尿素或乙二胺作辅助配位剂时,铬镀层均匀、光亮,耐蚀性好,因此尿素和乙二胺较适用于装饰性镀铬工艺。

关 键 词:三价铬  电沉积  甘氨酸  复合配位剂
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