耐电子束辐照高分子材料改性研究进展

概述了电子束辐照应用发展和高分子材料的耐辐照改性;重点叙述了本体耐辐照高分子材料及其使用的局限性,综述了具有大电子云结构的引入、受阻酚类抗氧剂、受阻胺类光稳定剂对高分子材料辐照性能影响的研究,以及其他改性填加剂的作用机理与效果。添加受阻酚类抗氧剂、受阻胺类光稳定剂等对高分子材料耐电子束辐照有一定效果,稳定剂复配具有更加良好的耐辐照效应;开发高效的稳定剂以制备耐辐照高分子材料仍然是十分迫切的研究重点。