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光刻机箱体内部温度控制系统的硬件设计
引用本文:冯艳. 光刻机箱体内部温度控制系统的硬件设计[J]. 仪器仪表用户, 2009, 16(4): 69-70. DOI: 10.3969/j.issn.1671-1041.2009.04.040
作者姓名:冯艳
作者单位:安徽建筑工业学院,数理系,合肥,230601
基金项目:安徽建筑工业学院校内青年基金 
摘    要:本文介绍了利用PLC实现的光刻机箱体内部温度控制系统的一个硬件设计方案。实验证明。本方案具有设计合理、性能稳定可靠、易于推广等特点。

关 键 词:温度控制  光刻机  PLC  半导体加工

Hardware design on temperature control system of photoeteching machine
FENG Yan. Hardware design on temperature control system of photoeteching machine[J]. Electronic Instrumentation Customer, 2009, 16(4): 69-70. DOI: 10.3969/j.issn.1671-1041.2009.04.040
Authors:FENG Yan
Affiliation:Department of Mathmatis & Physics;AnhuiI University of Architecture;Hefei 230601;China
Abstract:This paper introduce a schedule about hardware design on temperature control system of photoeteching machine.It is based on PLC.And the experiment approves that it is reasonable and easy to be sale promotion.
Keywords:PLC
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