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基于光学干涉法的光学元件表面粗糙度检测技术
引用本文:宋永,刘德春.基于光学干涉法的光学元件表面粗糙度检测技术[J].四川激光,2023(2):226-230.
作者姓名:宋永  刘德春
作者单位:1. 阿坝师范学院应用物理研究所;2. 阿坝师范学院电子信息与自动化学院
摘    要:为实现光学元件表面微小粗糙度的精准、详细检测,研究基于光学干涉法的光学元件表面粗糙度检测技术。该技术采用基于集成光学干涉成像技术对光学元件表面干涉成像,通过改进的Niblack二值化算法提取元件表面干涉图像条纹信息,并基于节点迭代的去毛刺方法细化处理干涉条纹,利用最小二乘方法拟合干涉条纹,获取最小二乘拟合直线得出评定基准,建立评定表面粗糙度的高度参数和间距参数的数学模型,完成粗糙度检测。测试结果显示:该技术干涉成像能力较强,生成的光学透镜元件干涉图像弧度与边缘较为清晰,可有效去除干涉条纹毛刺,检测光学元件表面粗糙度时的真正类率最大数值已达到1.0。

关 键 词:光学干涉法  光学元件  表面粗糙度  检测技术  干涉成像  干涉条纹  拟合直线  评定基准
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