基于光学干涉法的光学元件表面粗糙度检测技术 |
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引用本文: | 宋永,刘德春.基于光学干涉法的光学元件表面粗糙度检测技术[J].四川激光,2023(2):226-230. |
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作者姓名: | 宋永 刘德春 |
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作者单位: | 1. 阿坝师范学院应用物理研究所;2. 阿坝师范学院电子信息与自动化学院 |
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摘 要: | 为实现光学元件表面微小粗糙度的精准、详细检测,研究基于光学干涉法的光学元件表面粗糙度检测技术。该技术采用基于集成光学干涉成像技术对光学元件表面干涉成像,通过改进的Niblack二值化算法提取元件表面干涉图像条纹信息,并基于节点迭代的去毛刺方法细化处理干涉条纹,利用最小二乘方法拟合干涉条纹,获取最小二乘拟合直线得出评定基准,建立评定表面粗糙度的高度参数和间距参数的数学模型,完成粗糙度检测。测试结果显示:该技术干涉成像能力较强,生成的光学透镜元件干涉图像弧度与边缘较为清晰,可有效去除干涉条纹毛刺,检测光学元件表面粗糙度时的真正类率最大数值已达到1.0。
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关 键 词: | 光学干涉法 光学元件 表面粗糙度 检测技术 干涉成像 干涉条纹 拟合直线 评定基准 |
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