沉积温度对电弧离子镀AlCrSiN涂层的影响 |
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作者姓名: | 刘艳梅 张蕊 朱强 王重阳 白乌力吉 曹凤婷 范其香 王铁钢 |
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作者单位: | 天津职业技术师范大学 天津市高速切削与精密加工重点实验室,天津 300222;天津职业技术师范大学 天津市高速切削与精密加工重点实验室,天津 300222;南京航空航天大学 机电学院,南京 210016 |
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基金项目: | 天津市多元投入基金重点项目(22JCZDJC00670);天津市教委科研计划项目(2021ZD005,2022ZD020,2022ZD033);天津市多元投入基金项目(22JCYBJC01600) |
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摘 要: | 目的 优化涂层制备工艺,改善AlCrSiN涂层的力学及摩擦性能。方法 采用可调节磁场强度的新型电弧离子镀技术,在不同沉积温度下研制AlCrSiN涂层。利用XRD及SEM分析AlCrSiN涂层的相结构、截面形貌,借助纳米压痕仪、划痕测试仪、高温摩擦磨损试验机以及台阶仪测试AlCrSiN涂层硬度、膜/基结合强度以及摩擦磨损性能。系统分析沉积温度对AlCrSiN涂层的成分分布、微观结构演变、力学性能的影响,并研究沉积温度对AlCrSiN涂层摩擦磨损性能的影响规律及磨损机制。结果 随着沉积温度逐渐升高,涂层吸附原子的活性增强,涂层沉积速率出现先上升、再下降的趋势。随着沉积温度升高,涂层中的Cr2N相逐渐替代CrN相,且hcp-AlN相沿(11■0)晶面择优生长。各沉积温度下,AlCrSiN涂层均与单晶硅片基体表面结合良好,且具有良好的致密性。沉积温度的升高,增强了原子的扩散能力,致使晶粒尺寸增大。随着沉积温度升高,涂层的硬度及弹性模量均呈上升趋势,而H/E、H3/E*2均先升高、后降低,涂层膜/基结合强度逐渐增大。当沉积温度为3...
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关 键 词: | 电弧离子镀 AlCrSiN涂层 沉积温度 摩擦磨损 力学性能 |
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