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铜(Ⅱ)离子印迹复合膜的静电组装法制备及其吸附特性
引用本文:范荣玉,郑细鸣,林兴.铜(Ⅱ)离子印迹复合膜的静电组装法制备及其吸附特性[J].化工学报,2014,65(8):3039-3047.
作者姓名:范荣玉  郑细鸣  林兴
作者单位:绿色化工技术福建省高等学校重点实验室, 武夷学院生态与资源工程学院, 福建 武夷山 354300
基金项目:福建省自然科学基金项目(2014J01056,2012D130);福建省教育厅科技计划项目(JA11261,JA12326)。
摘    要:将聚丙烯酸和聚亚乙基亚胺-Cu(Ⅱ)络合物通过静电作用交替组装到聚丙烯微孔膜(MPPM)表面,再通过环氧氯丙烷的交联,使组装层形成交联体系,洗脱除去Cu(Ⅱ)离子,制得Cu(Ⅱ)离子印迹复合膜。采用FTIR、XPS和ESEM对膜表面的化学组成及物理形态进行了表征。制得的离子印迹复合膜具有良好的亲水性和稳定性,吸水量能够达到MPPM的819倍以上;在1.5 mol·L-1 的NaCl水溶液或55℃水浴中振荡洗涤48 h,膜表面的组装层质量能保持在94%以上。平衡吸附实验结果发现,离子印迹复合膜对Cu(Ⅱ)离子具有良好的吸附能力与高的选择性,饱和吸附量可达112.87 mg·cm-2,以Pb(Ⅱ)、Zn(Ⅱ)、Ni(Ⅱ)、Co(Ⅱ)、Mg(Ⅱ)或Mn(Ⅱ)作为竞争离子,膜对Cu(Ⅱ)离子的选择性系数分别达17.72、26.66、17.43、16.87、29.72和19.75。吸附热力学与动力学研究结果表明,吸附属于单分子层吸附,吸附主要受化学作用控制。制得的离子印迹复合膜具有良好的再生能力,10次吸附-脱附循环后,对Cu(Ⅱ)离子的吸附量能保持在90%以上。

关 键 词:层层静电组装  离子印迹    选择性  分离  制备  铜离子  
收稿时间:2014-01-13
修稿时间:2014-03-31
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