| 溅射工艺参数对MgF2薄膜光学性质的影响 |
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| 引用本文： | 张育潜,傅莉. 溅射工艺参数对MgF2薄膜光学性质的影响[J]. 矿冶, 2017, 26(5): 65-68 |
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| 作者姓名： | 张育潜 傅莉 |
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| 作者单位： | 西北工业大学材料学院,西北工业大学材料学院 |
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| 摘 要： | 采用射频磁控溅射工艺,在紫外熔融石英衬底上制备了MgF_2薄膜。通过改变溅射功率和氩气流量,研究了主要溅射工艺参数对薄膜结构和光学性质的影响规律。试验结果表明,选择合适的溅射功率和氩气流量可以提高MgF_2薄膜的光学性质,有利于MgF_2薄膜在紫外波段的应用。
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| 关 键 词： | MgF_2薄膜 溅射功率 氩气流量 光学性质 |
| 收稿时间： | 2017-09-04 |
| 修稿时间： | 2017-09-04 |
EFFECT OF SPUTTERING PROCESS PARAMETERS ON OPTICAL PROPERTIES OF MgF_2 THIN FILMS |
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| zhangyuqian and fuli. EFFECT OF SPUTTERING PROCESS PARAMETERS ON OPTICAL PROPERTIES OF MgF_2 THIN FILMS[J]. Mining & Metallurgy, 2017, 26(5): 65-68 |
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| Authors: | zhangyuqian and fuli |
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