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| 利用射频磁控溅射制作高性能铁磁性薄膜的研究 | |
| 引用本文： | 夏洋,方光旦.利用射频磁控溅射制作高性能铁磁性薄膜的研究[J].材料工程,1998(5):31-33. |
| 作者姓名： | 夏洋 方光旦 |
| 作者单位： | 北京科技大学，中国科学院计算所 |
| 摘 要： | 讨论了用射频（ＲＦ）磁控溅射制作铁磁性薄膜工艺，合适的工艺参数能够获得较低的矫顽力Ｈｃ＝６Ｏｅ。用Ｘ射线光电子能谱（ＸＰＳ）和原子力显微镜（ＡＦＭ）研究膜表面情况及氧化深度。 |
| 关 键 词： | 巨磁电阻 薄膜 铁磁性 射频磁控溅射 |
Studies on Fe Thin Film by RF Magnetron Sputtering |
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| Abstract: | |
| Keywords: | giant magnetoresistance thin film |
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