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纳米岛光刻技术及其应用
引用本文:伊福廷,Mino Green.纳米岛光刻技术及其应用[J].微细加工技术,2004(4):22-26.
作者姓名:伊福廷  Mino Green
作者单位:1. 中科院高能物理研究所,北京,100039
2. Department of Electrical and Electronic Engineering,Imperial College,Exhibition Road,London SW72BT,United Kingdom
基金项目:英国皇家协会王宽城基金资助项目(ART/CN/XFI/KCW/13452),国家自然科学基金资助项目(50375150)
摘    要:介绍了一种基于微加工技术的新方法——纳米岛光刻技术。利用该技术制造出几十纳米到微米尺度的岛结构,然后利用剥离、刻蚀等微加工技术,将该岛转化成纳米孔、纳米岛、纳米井等结构。该技术的特点是能够制造出具有各种密度的纳米结构(最高覆盖率可达50%以上),且开发成本低,工艺性能优越,是一种有效制造纳米岛结构的专业方法。

关 键 词:光刻  纳米岛  纳米技术  微加工
文章编号:1003-8213(2004)04-0022-05
修稿时间:2004年7月1日

Nano Islands Lithography and Its Applications
YI Fu-ting,Mino Green.Nano Islands Lithography and Its Applications[J].Microfabrication Technology,2004(4):22-26.
Authors:YI Fu-ting  Mino Green
Affiliation:YI Fu-ting~1,Mino Green~2
Abstract:A new way (nano island lithography) for making the nano structures, based on micro fabrication technologies, is introduced. The islands with nano or micro diameters are firstly fabricated with nano island lithography, and then nano holes, nano islands, nano wells can be made from the islands by using liftoff, RIE etching, or other fabrication methods. The strong point of this technique is a very efficient and economic special way to make the nano island structures with different high packing densities (highest above 50%).
Keywords:lithography  nano island  nano technology  micro fabrication
本文献已被 CNKI 维普 万方数据 等数据库收录!
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