| 真空退火对LiF和CaF2薄膜结晶性能的影响 |
| |
| 引用本文： | 万媛,李德杰. 真空退火对LiF和CaF2薄膜结晶性能的影响[J]. 真空科学与技术学报, 2002, 22(2): 146-148 |
| |
| 作者姓名： | 万媛 李德杰 |
| |
| 作者单位： | 清华大学电子工程系,北京,100084 |
| |
| 摘 要： | 研究了真空退火对玻璃衬底上热蒸发沉积的LiF和CaF2 薄膜的结晶性能的影响。X射线衍射分析结果表明 ,在4 2 0℃温度下 ,随着退火时间的增长 ,LiF薄膜的结晶状况明显改善 ;在 4 6 0℃温度下 ,随着退火时间的增长 ,CaF2 薄膜的结晶状况越来越好
|
| 关 键 词： | LiF薄膜 CaF2薄膜 结晶性能 退火 X射线衍射 |
| 文章编号： | 0253-9748(2002)02-0146-03 |
| 修稿时间： | 2001-07-05 |
Vacuum Annealing of LiF and CaF2 Thin Films |
| |
| Wang Yuan,Li Dejie. Vacuum Annealing of LiF and CaF2 Thin Films[J]. JOurnal of Vacuum Science and Technology, 2002, 22(2): 146-148 |
| |
| Authors: | Wang Yuan Li Dejie |
| |
| Abstract: | |
| |
| Keywords: | LiF thin film CaF 2 thin film Crystal properties Annealing process X ray diffraction |
| 本文献已被 CNKI 万方数据 等数据库收录！ |
|
