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分子动力学模拟C+离子与聚变材料钨的相互作用
引用本文:田树平,贺平逆,张静全,潘宇东,苟富均.分子动力学模拟C+离子与聚变材料钨的相互作用[J].真空科学与技术学报,2013,33(4).
作者姓名:田树平  贺平逆  张静全  潘宇东  苟富均
作者单位:1. 四川大学原子核科学技术研究所 成都610064
2. 贵州大学理学院 贵阳550025
3. 四川大学材料科学与工程学院 成都610064
4. 核工业西南物理研究院 成都610041
基金项目:国际热核聚变实验堆计划专项,贵州省优秀青年科技人才培养计划,科技部863基金项目
摘    要:采用分子动力学方法模拟不同能量的C+离子与聚变材料钨的相互作用.模拟结果表明:当C+离子入射剂量为3.11×1016 cm-2,入射能量为50eV时,样品表面形成一层碳膜;而入射离子能量为150和250eV时,C+离子入射到样品内与钨原子共同形成碳钨混合层,样品表面没有形成碳膜;碳的沉积率随能量的增大先减小后增加,溅射率随能量的增大先增大后减小;轰击后的样品中,碳原子密度、C-W键密度及C-C键密度分布都随能量的增加逐渐向样品内移动,且C-W键分布厚度随能量的增加而逐渐增加,C-C键分布厚度几乎不随能量变化;在作用过程中极少量的钨原子发生溅射,但引起钨品格损伤严重;碳在轰击后的样品中主要以Csp3杂化形式存在.

关 键 词:分子动力学  聚变材料  沉积率  溅射率  钨的晶格

Molecular Dynamic Simulation of Interaction of C+ Ions and Fusion Material Tungsten
Abstract:
Keywords:
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