| PLD法制备NiO薄膜及结构和形貌的研究 |
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| 引用本文： | 汪礼柱,梁金,何晓雄,梁齐. PLD法制备NiO薄膜及结构和形貌的研究[J]. 真空, 2013, 50(2) |
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| 作者姓名： | 汪礼柱 梁金 何晓雄 梁齐 |
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| 作者单位： | 合肥工业大学电子科学与应用物理学院,安徽合肥,230009 |
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| 摘 要： | 利用脉冲激光沉积法(PLD)在Si衬底上制备NiO薄膜,利用X射线衍射(XRD)和原子力显微镜(AFM)对所制备薄膜的晶体结构和表面形貌进行表征分析,研究衬底温度和脉冲激光能量对NiO薄膜结构和形貌的影响,得到生长质量较高、择优取向的多晶NiO薄膜的一种最佳制备条件.制备了p-NiO/n-Si异质结器件,Ⅰ-Ⅴ特性测试表明,器件具有良好的整流特性.
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| 关 键 词： | NiO薄膜 脉冲激光沉积(PLD) 结构 形貌 |
Growth of NiO thin films by PLD and their structure and morphology |
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| WANG Li-zhu , LIANG Jin , HE Xiao-xiong , LIANG Qi. Growth of NiO thin films by PLD and their structure and morphology[J]. Vacuum(China), 2013, 50(2) |
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| Authors: | WANG Li-zhu LIANG Jin HE Xiao-xiong LIANG Qi |
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