| Al-Sn共掺杂ZnO薄膜的结构与光电性能研究 |
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| 引用本文： | 刘斌,沈鸿烈,冯晓梅,王威,岳之浩,吴天如.Al-Sn共掺杂ZnO薄膜的结构与光电性能研究[J].真空科学与技术学报,2013,33(2). |
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| 作者姓名： | 刘斌 沈鸿烈 冯晓梅 王威 岳之浩 吴天如 |
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| 作者单位： | 南京航空航天大学材料科学与技术学院 南京210016 |
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| 基金项目： | 国家863计划项目，江苏高校优势学科建设工程资助项目 |
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| 摘 要： | 采用射频磁控共溅射法在玻璃衬底上制备出了Al与Sn共掺杂的ZnO(ATZO)薄膜.在固定ZnO∶Al(AZO)靶溅射功率不变的条件下,研究了Sn靶溅射功率对ATZO薄膜的结晶质量、表面形貌、电学和光学性能的影响.结果表明,制备的ATZO薄膜是六角纤锌矿结构的多晶薄膜,具有c轴择优取向,而且表面致密均匀.当Sn溅射功率为5W时,330 nm厚度的ATZO薄膜的电阻率最小为1.49×10-3 Ω·cm,比AZO薄膜下降了22％.ATZO薄膜在400～900 nm波段的平均透过率为88.92％,禁带宽度约为3.62 eV.
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| 关 键 词： | ZnO薄膜 磁控溅射 Al-Sn共掺杂 光电特性 |
Microstructures and Electro-Optical Properties of ZnO Films Doped with Al and Sn |
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