| 不同衬底温度下生长的Bi1.5Zn1.0Nb1.5O7.0薄膜的XPS研究 |
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| 引用本文： | 张效华,辛凤,胡跃辉,陈义川,杨丰.不同衬底温度下生长的Bi1.5Zn1.0Nb1.5O7.0薄膜的XPS研究[J].真空科学与技术学报,2013,33(5). |
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| 作者姓名： | 张效华 辛凤 胡跃辉 陈义川 杨丰 |
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| 作者单位： | 景德镇陶瓷学院机械与电子工程学院 景德镇333000 |
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| 基金项目： | 江西省自然科学基金项目，江西省重点科技计划指导性项目，江西省教育厅科技项目，江西省景德镇市级科技项目 |
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| 摘 要： | 采用固相反应法合成具有焦绿石立方结构的Bi1.5Zn1.0Nb1.5 O7(BZN)陶瓷靶材,采用脉冲激光沉积法在Pt/TiO2/SiO2/Si(100)基片制备立方BZN薄膜,衬底温度在500～ 700℃范围内变化.X射线衍射测量结果表明:当在500℃沉积BZN薄膜时,薄膜呈现出无定形态结构.随着衬底温度增加到550℃,薄膜开始晶化,并且显示出立方焦绿石结构.X射线光电子能谱也被用来研究BZN薄膜的结构状态和元素价态.测试得到的全谱表明:在BZN薄膜中,除了用于定标的C元素之外,只有Bi、Zn、Nb、O元素的特征峰,此外有Ti2p特征峰出现,可能来自底电极的TiO2缓冲层.各元素的窄谱扫描表明:Bi,Zn,Nb,O四种元素的化学价态分别是+3,+2,+5,-2.BZN薄膜在550℃结晶,随着衬底温度升高到600℃,金属阳离子的结合能的峰位向高能方向移动,然而O1s的特征峰位也向高能方向移动,这归因于薄膜中存在的氧空位.
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| 关 键 词： | Bi1.5Zn1.0Nb1.5O7 薄膜 脉冲激光沉积 X射线光电子能谱 |
Deposition and Characterization of Bi1.5Zn1.0Nb1.5O7.0 Films |
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