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脉冲叠加直流偏压电弧离子镀TiCrNx薄膜的制备与性能研究
引用本文:葛高峰,赵广彬,蒙志林,谭刚,肖鹏.脉冲叠加直流偏压电弧离子镀TiCrNx薄膜的制备与性能研究[J].真空,2013,50(2).
作者姓名:葛高峰  赵广彬  蒙志林  谭刚  肖鹏
作者单位:西华大学材料科学与工程学院,四川成都,610039
基金项目:"高档数控机床与基础制造装备"科技部重大专项,四川省特种材料及制备技术重点实验室经费资助
摘    要:采用脉冲叠加直流偏压电弧离子镀技术在硬质合金刀具表面制备TiCrNx薄膜,利用XRD,SEM,多功能材料表面性能测试仪等对TiCrNx薄膜进行表征.结果表明,TiCrNx与TiN薄膜相比,硬度有所下降.膜-基结合力与靶材阴极弧电流及偏压有关.

关 键 词:脉冲叠加直流偏压电弧离子镀  TiCrNx薄膜  PVD

Preparation and properties of TiCrNx film by pulse superposition dc bias arc ion plating
GE Gao-feng , ZHAO Guang-bin , MENG Zhi-lin , TAN Gang , XIAO Peng.Preparation and properties of TiCrNx film by pulse superposition dc bias arc ion plating[J].Vacuum,2013,50(2).
Authors:GE Gao-feng  ZHAO Guang-bin  MENG Zhi-lin  TAN Gang  XIAO Peng
Abstract:
Keywords:
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