首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
     

Ta/NiFe/Cu/NiFe/FeMn/Ta自旋阀多层膜的X射线光电子能谱的研究
引用本文:于广华,李明华,朱逢吾.Ta/NiFe/Cu/NiFe/FeMn/Ta自旋阀多层膜的X射线光电子能谱的研究[J].真空电子技术,2003(5):42-45.
作者姓名:于广华  李明华  朱逢吾
作者单位:北京科技大学,材料物理系,北京,100083
基金项目:国家自然科学基金(50271007),北京市自然科学基金(2012011)资助项目。
摘    要:实验表明:Ta/NiFe/FeMn/Ta多层膜的交换耦合场(Hex)要大于Ta/NiFe/Cu/NiFe/FeMn/Ta自旋阀多层膜中的以Hex。为了寻找其原因,用X射线光电子能谱(XPS)研究了Ta(12nm)/NiFe(7nm),Ta(12nm)/NiFe(7nm))/Cu(4nm)和Ta(12nm)/NiFe(7nm)/Cu(3nm)/NiFe(5nm)3种样品,研究结果表明,前两种样品表面无任何来自下层的元素偏聚;但在第3种样品最上层的NiFe表面上,探测到从下层偏聚上来的Cu原子。我们认为:Cu在NiFe/FeMn层间的存在是Ta/NiFe/Cu/NiFe/FeMn/Ta自旋阀多层膜的Hex低于Ta/NiFe/FeMn/Ta多层膜Hex的一个重要原因。

关 键 词:自旋阀多层膜  交换耦合场  层间偏聚  X射线光电子能谱
文章编号:1002-8935(2003)05-0042-04
修稿时间:2002年12月27

Studies of X-ray Photoelectron Spectroscopy of Spin-valve Multilayers Ta/NiFe/Cu/NiFe/FeMn/Ta
Abstract:
Keywords:Spin valve multilayers  Exchange coupling field  Interlayer segregation  X-ray photoelectron spectroscopy
本文献已被 CNKI 维普 万方数据 等数据库收录!
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号