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磁盘光刻伺服技术
作者姓名:贾连兴  张江陵  肖正文
作者单位:华中理工大学计算机系
摘    要:随着磁盘驱动器的发展,产生了一种提高道密度的新技术,我们称之为光刻伺服技术。综述了光刻伺服技术的发展过程,并对光磁软盘的光刻伺服技术、Hitachi公司17kT/In硬盘样机的光刻伺服技术进行了较为详细的分析和描述,指出光刻伺服技术已成为提高磁盘驱动器道密度最关键的技术之一,并具有良好的发展前景。

关 键 词:光刻伺服,磁盘,道密度
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