| CuLaO2薄膜的制备和光电性能研究 |
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| 引用本文： | 董国波,张铭,董培明,赵学平,严辉.CuLaO2薄膜的制备和光电性能研究[J].郑州大学学报(工学版),2008,29(4):10-13. |
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| 作者姓名： | 董国波 张铭 董培明 赵学平 严辉 |
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| 作者单位： | 北京工业大学材料科学与工程学院,北京,100124 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金资助项目(60576012); 北京市优秀人才D类资助项目(20061D501500199) |
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| 摘 要： | 采用传统的固相烧结法制备出纯相CuLaO2粉末,以此为靶材,首次采用射频磁控溅射法制备CuLaO2 薄膜并进行退火研究,得到了具有少量杂相的CuLaO2薄膜.其透过率在红外光区较高,近70%,可见光范Itt相时较低.CuLaO2 薄膜的电导率约6.7×10-4S/cm.对比分析了CuLaO2粉末及薄膜室温光致发光性能.测试结果表明,粉末和薄膜在450 am-650 am范围都有明显的发光带,而薄膜有少量的杂峰,杂峰是由于La203、Cu的氧化物及石英衬底的影响.
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| 关 键 词： | CuLaO2 磁控溅射 光致发光 |
Study on Fabrication of CuLaO_2 Thin Film and Its Photoelectric Properties |
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| DONG Guo-bo
,
ZHANG Ming
,
DONG Pei-ming
,
ZHAO Xue-ping
,
YAN Hui.Study on Fabrication of CuLaO_2 Thin Film and Its Photoelectric Properties[J].Journal of Zhengzhou University: Eng Sci,2008,29(4):10-13. |
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| Authors: | DONG Guo-bo ZHANG Ming DONG Pei-ming ZHAO Xue-ping YAN Hui |
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| Affiliation: | DONG Guo-bo,ZHANG Ming,DONG Pei-ming,ZHAO Xue-ping,YAN Hui (College of Materials Science , Engineering,Beijing University of Technology,Beijing 100124,China) |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | CuLaO2 magnetron sputtering photoluminescence |
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