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国内外硅片磨抛设备发展述评
作者姓名:谢中生
作者单位:电子工业部第四十五研究所
摘    要:硅片磨抛设备的发展轻快。成熟较早;八十年代中期业已进入完善阶段,其产品各具特色。从总结特点出发,评述其水平与发展。

关 键 词:硅片磨抛,特点,水平
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