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| 垂直磁记录的研究现状 | |
| 引用本文： | 杨宗毓.垂直磁记录的研究现状[J].磁性材料及器件,1984(1). |
| 作者姓名： | 杨宗毓 |
| 作者单位： | 西南应用磁学研究所 |
| 摘 要： | 一、前言磁记录技术的每一个历史阶段,都是把提高记录密度作为主要的研究课题,垂直磁记录的研究目的也正在于此。从1975年开始,日本东北大学的岩崎俊一教授就着手研究垂直磁记录方式。经过短暂的五年时间,就得到了世界各国的承认。目前,其研究方向已逐步从基础研 |
| 本文献已被 CNKI 等数据库收录！ | |
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