| 溶液浓度对SiC量子点光学性能的影响及表面修饰 |
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| 引用本文： | 康杰,丁紫阳,孙为云,焦璨,王晓燕,宋月鹏. 溶液浓度对SiC量子点光学性能的影响及表面修饰[J]. 半导体技术, 2021, 46(8): 645-649,657. DOI: 10.13290/j.cnki.bdtjs.2021.08.011 |
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| 作者姓名： | 康杰 丁紫阳 孙为云 焦璨 王晓燕 宋月鹏 |
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| 作者单位： | 郑州职业技术学院材料工程系,郑州 450121;山东农业大学机械与电子工程学院,山东泰安 271000 |
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| 摘 要： | 采用可控化学腐蚀法制备SiC量子点,在原有腐蚀剂(氢氟酸和硝酸)的基础上添加适量的分析纯硫酸,一步法完成SiC量子点的表面修饰.采用光度计和Lince软件测量并计算了平均粒径5 nm的SiC量子点在不同溶液浓度下的光致发光谱和平均间距;采用傅里叶变换红外光谱仪对SiC量子点表面的功能团进行检测,对其表面亲水性基团耦合的机理进行分析.结果表明,随着SiC量子点溶液浓度的增大(4～12 μmol·L-1),其光致发光强度先增大后减小,且光致发光强度峰值出现在8 μmol·L-1时;SiC量子点表面形成亲水性基团的关键在于腐蚀法制备过程中超声空化环节所营造的局部高压高温环境.
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| 关 键 词： | SiC量子点 浓度 光致发光强度 特征发射谱图 生物相容性 |
Effect of Solution Concentration on Optical Performance of SiC Quantum Dots and Surface Modification |
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| Kang Jie,Ding Ziyang,Sun Weiyun,Jiao Can,Wang Xiaoyan,Song Yuepeng. Effect of Solution Concentration on Optical Performance of SiC Quantum Dots and Surface Modification[J]. Semiconductor Technology, 2021, 46(8): 645-649,657. DOI: 10.13290/j.cnki.bdtjs.2021.08.011 |
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| Authors: | Kang Jie Ding Ziyang Sun Weiyun Jiao Can Wang Xiaoyan Song Yuepeng |
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