| MPCVD金刚石的制备与应用研究进展 |
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| 引用本文： | 马志斌.MPCVD金刚石的制备与应用研究进展[J].金刚石与磨料磨具工程,2021,41(1):1-4. |
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| 作者姓名： | 马志斌 |
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| 作者单位： | 1. 武汉工程大学 材料科学与工程学院, 等离子体化学与新材料湖北省重点实验室, 武汉 430073;2. 黄冈师范学院 化学化工学院, 湖北 黄冈 438000 |
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| 摘 要： | 正武汉工程大学等离子体化学与新材料湖北省重点实验室长期致力于等离子体技术与CVD金刚石方面的研究。2001年至今,围绕高质量、大尺寸多晶和单晶金刚石制备的需要,开展微波等离子体技术与先进微波等离子体化学沉积装备的研究工作,开发出系列等离子体源和微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)设备,在MPCVD制备高质量、英寸级金刚石及高端CVD金刚石应用等方面取得重要进展,具体包括开发出具有双基片台结构的MPCVD反应腔,75kW级915MHz MPCVD装备,大尺寸单晶金刚石的二维扩大生长技术和纳米金刚石真空窗口的制备技术。团队成员主持完成了多项国家、
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