| LIGA技术X光深层光刻工艺研究 |
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| 引用本文： | 陈迪,李昌敏,章吉良,伊福廷,周狄,郭晓芸. LIGA技术X光深层光刻工艺研究[J]. 微细加工技术, 2000, 0(2): 66-69 |
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| 作者姓名： | 陈迪 李昌敏 章吉良 伊福廷 周狄 郭晓芸 |
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| 作者单位： | 1. 上海交通大学信息存储研究中心微米/纳米加工技术国家重点实验室薄膜与微细技术国家教委部门开放研究实验室,上海,200030
2. 中科院北京高能物理研究所,北京,100039 |
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| 基金项目： | 上海市教委曙光计划资助项目(97SG10) |
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| 摘 要： | 通过在北京高有所３Ｗ１束线上进行的Ｘ光深层光刻工艺研究，获得了测壁光滑、陡直，厚度达１００μｍ，深度比达２０的光刻胶和金属微结构，表明该光束线适应于ＬＩＧＡ技术的研究。
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| 关 键 词： | LIGA技术 X光深层光刻 VLSI 微机电系统 |
| 文章编号： | 1003-8213(2000)02-0013-05 |
| 修稿时间： | 1999-08-10 |
Study on X-Ray Deep Lithography Process in LIGA Technique |
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| CHEN DI,LI Chang-min,ZHANG Ji-liang,YI Fu-ting,ZHOU Di,GUO Xiao-yun. Study on X-Ray Deep Lithography Process in LIGA Technique[J]. Microfabrication Technology, 2000, 0(2): 66-69 |
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| Authors: | CHEN DI LI Chang-min ZHANG Ji-liang YI Fu-ting ZHOU Di GUO Xiao-yun |
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| Affiliation: | CHEN DI,Chang-min,ZHANG Ji- liang;(Information Storage Research Center, Shanghai Jiao Tong University, State Key Laboratory for Micro/Nano Fabrication Technology, The State Education Commission Open Laboratory for Films and Microfabrication, Shanghai 200030, China);YI Fu-ting;(Institute for High Energy Physics, Chinese Academy of Science, Beijing 100039, China);ZHOU Di,GUO Xiao-yun;(Information Storage Research Center, Shanghai Jiao Tong University, State Key Laboratory for Micro/Nano Fabrication Technology, The State Education Commission Open Laboratory for Films and Microfabrication, Shanghai 200030, China) |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | LIGA technique X-ray deep lithography |
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